CVD-SiC ஷவர்ஹெட்

ஒரு CVD ஷவர்ஹெட் சூழலில், CVD-SiC ஷவர்ஹெட் பொதுவாக CVD செயல்முறையின் போது அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பில் முன்னோடி வாயுக்களை சமமாக விநியோகிக்க வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளது. ஷவர்ஹெட் பொதுவாக அடி மூலக்கூறுக்கு மேலே அமைந்துள்ளது, மேலும் முன்னோடி வாயுக்கள் அதன் மேற்பரப்பில் சிறிய துளைகள் அல்லது முனைகள் வழியாக பாய்கின்றன.

ஷவர்ஹெட்டில் பயன்படுத்தப்படும் CVD-SiC பொருள் பல நன்மைகளை வழங்குகிறது. அதன் உயர் வெப்ப கடத்துத்திறன் CVD செயல்பாட்டின் போது உருவாகும் வெப்பத்தை வெளியேற்ற உதவுகிறது, அடி மூலக்கூறு முழுவதும் சீரான வெப்பநிலை விநியோகத்தை உறுதி செய்கிறது. கூடுதலாக, SiC இன் இரசாயன நிலைத்தன்மை, CVD செயல்முறைகளில் பொதுவாக எதிர்கொள்ளும் அரிக்கும் வாயுக்கள் மற்றும் கடுமையான சூழல்களைத் தாங்க அனுமதிக்கிறது.

CVD-SiC ஷவர்ஹெட்டின் வடிவமைப்பு குறிப்பிட்ட CVD அமைப்பு மற்றும் செயல்முறைத் தேவைகளைப் பொறுத்து மாறுபடும். இருப்பினும், இது பொதுவாக துல்லியமாக துளையிடப்பட்ட துளைகள் அல்லது ஸ்லாட்டுகளின் வரிசையுடன் ஒரு தட்டு அல்லது வட்டு வடிவ கூறுகளைக் கொண்டுள்ளது. அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பில் சீரான வாயு விநியோகம் மற்றும் ஓட்ட விகிதங்களை உறுதி செய்வதற்காக துளை வடிவமும் வடிவவியலும் கவனமாக வடிவமைக்கப்பட்டுள்ளன.