TaC பூச்சு பீடத்தின் ஆதரவாளர்

செமிகோரெக்ஸ் TaC கோட்டிங் பீடஸ்டல் சப்போர்ட்டர் இயந்திர ஆதரவில் முக்கிய பங்கு வகிக்கிறது, ஆனால் செயல்முறை ஓட்டத்தை கட்டுப்படுத்துகிறது. இது அணுஉலையில் பயன்படுத்தப்படும் போது முக்கிய சஸ்பெப்டர் அல்லது வேஃபர் கேரியரின் அடியில் அமைந்துள்ளது. இது சுழலும் அசெம்பிளியை நிலைக்கு பூட்டுகிறது, பீடத்தில் வெப்ப சமநிலையை வைத்திருக்கிறது மற்றும் செதில் மண்டலத்திற்கு கீழே ஆரோக்கியமான வாயு ஓட்டத்தை நிர்வகிக்கிறது. TaC கோட்டிங் பீடஸ்டல் சப்போர்டர் இரண்டு செயல்பாடுகளுக்காக உருவாக்கப்பட்டது, இதில் ஆக்கப்பூர்வமாக தயாரிக்கப்பட்ட கிராஃபைட் பேஸ், ரசாயன நீராவி படிவு (CVD) மூலம் ஒரே மாதிரியான அடர்த்தியான டான்டலம் கார்பைடு (TaC) அடுக்குடன் பூசப்பட்டுள்ளது.

டான்டலம் கார்பைடு, 3800 °C க்கும் அதிகமான உருகுநிலை மற்றும் அரிப்பு மற்றும் அரிப்புக்கு பெரும் எதிர்ப்புடன், கிடைக்கக்கூடிய மிகவும் பயனற்ற மற்றும் இரசாயன மந்தமான பொருட்களில் ஒன்றாகும். CVD தயாரிக்கப் பயன்படுத்தப்படும் போதுTaC பூச்சுகள், இறுதி முடிவு மென்மையான, அடர்த்தியான பூச்சு ஆகும், இது கிராஃபிட் அடி மூலக்கூறை அதிக வெப்பநிலை ஆக்சிஜனேற்றம், அம்மோனியா அரிப்பு மற்றும் உலோக-கரிம முன்னோடி எதிர்வினை ஆகியவற்றிலிருந்து பாதுகாக்கிறது. அரிக்கும் வாயுக்கள் அல்லது எபிடாக்சியல் செயல்முறைகளுடன் தொடர்புடைய தீவிர வெப்ப சைக்கிள் ஓட்டுதலின் நீண்ட வெளிப்பாட்டின் கீழ், பீடத்தின் ஆதரவாளர் தாங்கி, கட்டமைப்பு மற்றும் இரசாயன நிலைத்தன்மையை பராமரிக்கிறார்.

பல முக்கியமான செயல்பாடுகளைச் செய்வதன் மூலம், CVD TaC பூச்சு ஒரு பாதுகாப்புத் தடையாக செயல்படுகிறது, கிராஃபைட் பூச்சு மற்றும் அடி மூலக்கூறிலிருந்து ஏதேனும் சாத்தியமான கார்பன் மாசுபாடு அணுஉலை சூழலுக்குள் நுழைவதிலிருந்து அல்லது செதில் பாதிப்பை ஏற்படுத்துகிறது. இரண்டாவதாக, இது இரசாயன செயலற்ற தன்மையை வழங்குகிறது, ஆக்ஸிஜனேற்றம் மற்றும் வளிமண்டலங்களைக் குறைத்தல் ஆகிய இரண்டிலும் சுத்தமான மற்றும் நிலையான மேற்பரப்பை பராமரிக்கிறது. இது செயல்முறை வாயுக்கள் மற்றும் உலை வன்பொருள் இடையே தேவையற்ற எதிர்வினைகளைத் தடுக்கிறது, வாயு-கட்ட வேதியியல் கட்டுப்படுத்தப்படுவதையும், பட சீரான தன்மை பாதுகாக்கப்படுவதையும் உறுதி செய்கிறது.

வாயு ஓட்டக் கட்டுப்பாட்டில் பீடத்தின் ஆதரவாளரின் முக்கியத்துவமும் சமமாக கவனிக்கப்பட வேண்டும். எபிடாக்சியல் படிவு செயல்பாட்டில் ஒரு முக்கிய அம்சம், சீரான அடுக்கு வளர்ச்சியை அடைய செதில்களின் முழு மேற்பரப்பிலும் பாயும் செயல்முறை வாயுக்களின் சீரான தன்மையை உறுதி செய்வதாகும். TaC கோட்டிங் பீடஸ்டல் சப்போர்டர், வாயு ஓட்டம் தடங்கள் மற்றும் வடிவவியலைக் கட்டுப்படுத்த துல்லியமாக எந்திரம் செய்யப்பட்டுள்ளது, இது வாயுக்களை சீராக மற்றும் சமமாக எதிர்வினை மண்டலத்திற்கு இயக்க உதவும். லேமினார் ஓட்டத்தை கட்டுப்படுத்துவதன் மூலம், கொந்தளிப்பு குறைக்கப்படுகிறது, இறந்த மண்டலங்கள் அகற்றப்படுகின்றன, மேலும் நிலையான வாயு சூழல் ஏற்படுகிறது. இவை அனைத்தும் சிறந்த பட தடிமன் சீரான தன்மை மற்றும் சிறந்த எபிடாக்சியல் தரத்திற்கு பங்களிக்கின்றன.

திTaC பூச்சுஅதிக வெப்ப கடத்துத்திறன் மற்றும் உமிழ்வை வழங்குகிறது, இது பீட ஆதரவாளரை வெப்பத்தை திறமையாக நடத்தவும் கதிர்வீச்சு செய்யவும் அனுமதிக்கிறது. இது படிக வளர்ச்சியில் குறைவான மாறுபாட்டை உருவாக்கும் குறைந்த வெப்பநிலை சாய்வுகளுடன் கூடிய சஸ்பெப்டர் மற்றும் செதில் ஆகியவற்றில் சிறந்த ஒட்டுமொத்த வெப்பநிலை சீரான தன்மைக்கும் வழிவகுக்கும். கூடுதலாக, TaC ஆனது விதிவிலக்கான ஆக்சிஜனேற்ற எதிர்ப்பை வழங்குகிறது, இது நீண்ட கால செயல்பாடுகளின் போது உமிழ்வு சீராக இருப்பதை உறுதி செய்யும், துல்லியமான வெப்பநிலை அளவுத்திருத்தம் மற்றும் மீண்டும் மீண்டும் செய்யக்கூடிய செயல்முறை செயல்திறனை உறுதி செய்யும்.

TaC கோட்டிங் பீடஸ்டல் சப்போர்டர் அதிக மெக்கானிக்கல் ஆயுளைக் கொண்டுள்ளது, நீட்டிக்கப்பட்ட செயல்பாட்டு வாழ்க்கைக்கு கடன் அளிக்கிறது. CVD பூச்சு செயல்முறை, குறிப்பாக, TaC அடுக்கு மற்றும் கிராஃபைட் அடி மூலக்கூறு இடையே ஒரு திடமான மூலக்கூறு பிணைப்பை உருவாக்குகிறது, இது வெப்ப அழுத்தத்திலிருந்து நீக்கம், விரிசல் அல்லது உரிக்கப்படுவதைத் தடுக்கிறது. எனவே இது நூற்றுக்கணக்கான உயர்-வெப்பச் சுழற்சிகளில் இருந்து சீரழிவு இல்லாமல் பயனடைகிறது.