CVD SiC ஷவர் ஹெட்ஸ்

Semicorex CVD SiC ஷவர் ஹெட்கள் CCP பொறிக்கப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன. பிளாஸ்மாவை உருவாக்குவதற்கு CCP எட்சர்கள் இரண்டு இணை மின்முனைகளைப் பயன்படுத்துகின்றன (ஒன்று தரைமட்டமானது, மற்றொன்று RF சக்தி மூலத்துடன் இணைக்கப்பட்டுள்ளது). பிளாஸ்மா இரண்டு மின்முனைகளுக்கு இடையே உள்ள மின்சார புலத்தால் பராமரிக்கப்படுகிறது. மின்முனைகள் மற்றும் எரிவாயு விநியோக தட்டு ஆகியவை ஒரு கூறுகளாக ஒருங்கிணைக்கப்பட்டுள்ளன. சிவிடி எஸ்ஐசி ஷவர் ஹெட்களில் உள்ள சிறிய துளைகள் மூலம் செதில் வாயு ஒரே சீராக செதில் மேற்பரப்பில் தெளிக்கப்படுகிறது. அதே நேரத்தில், ஷவர்ஹெட்டில் (மேல் மின்முனையிலும்) RF மின்னழுத்தம் பயன்படுத்தப்படுகிறது. இந்த மின்னழுத்தம் மேல் மற்றும் கீழ் மின்முனைகளுக்கு இடையே ஒரு மின்சார புலத்தை உருவாக்குகிறது, பிளாஸ்மாவை உருவாக்க வாயுவை உற்சாகப்படுத்துகிறது. இந்த வடிவமைப்பு ஒரு எளிய மற்றும் மிகவும் கச்சிதமான கட்டமைப்பை உருவாக்குகிறது, அதே நேரத்தில் வாயு மூலக்கூறுகளின் சீரான விநியோகம் மற்றும் ஒரு சீரான மின்சார புலத்தை உறுதி செய்கிறது, இது பெரிய செதில்களின் சீரான பொறிப்பை செயல்படுத்துகிறது.

CVD SiC ஷவர் ஹெட்களை ICP எச்சிங்கிலும் பயன்படுத்தலாம். ICP எட்சர்கள் RF காந்தப்புலத்தை உருவாக்க ஒரு தூண்டல் சுருளை (பொதுவாக ஒரு சோலனாய்டு) பயன்படுத்துகின்றன, இது மின்னோட்டத்தையும் பிளாஸ்மாவையும் தூண்டுகிறது. CVD SiC ஷவர் ஹெட்கள், ஒரு தனி அங்கமாக, பிளாஸ்மா பகுதிக்குள் செதுக்கும் வாயுவை சமமாக வழங்குவதற்கு பொறுப்பாகும்.

CVD SiC ஷவர் ஹெட் என்பது செமிகண்டக்டர் செயலாக்க உபகரணங்களுக்கான உயர்-தூய்மை மற்றும் துல்லியமான-உற்பத்தி செய்யப்பட்ட கூறு ஆகும், இது எரிவாயு விநியோகம் மற்றும் மின்முனைத் திறனுக்கு அடிப்படையாகும். இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) உற்பத்தியைப் பயன்படுத்தி, ஷவர் ஹெட் விதிவிலக்கை அடைகிறது

பொருள்களின் தூய்மை மற்றும் எதிர்கால குறைக்கடத்தி உற்பத்தியின் கடுமையான தேவைகளைப் பூர்த்தி செய்யும் சிறந்த பரிமாணக் கட்டுப்பாடு.