ALD கிரக சஸ்பெப்டர்

பயன்பாடுகள்:

உயர்-கே மின்கடத்தா படிவு: ஹாஃப்னியம் ஆக்சைடு (HfO2) மற்றும் அலுமினியம் ஆக்சைடு (Al2O3) போன்ற உயர்-கே மின்கடத்தாப் பொருட்களை வைப்பதில் பயன்படுத்தப்படும் ஆக்கிரமிப்பு முன்னோடிகளுக்கு ALD பிளானட்டரி சஸ்செப்டர் சிறந்த எதிர்ப்பைக் காட்டுகிறது. இது லாஜிக் மற்றும் மெமரி அப்ளிகேஷன்களுக்கு உயர் செயல்திறன் கொண்ட டிரான்சிஸ்டர்களை உருவாக்குவதற்கு ஏஎல்டி பிளானட்டரி சஸ்செப்டரை ஏற்றதாக ஆக்குகிறது.

உலோகமயமாக்கல் அடுக்குகள்: ALD பிளானட்டரி சஸ்செப்டரின் உயர்-வெப்பநிலை நிலைத்தன்மை உயர்ந்த வெப்பநிலையில் உலோகமயமாக்கல் அடுக்குகளை படிவதற்கு அனுமதிக்கிறது, இது குறைந்த எதிர்ப்பு மற்றும் அதிக அடர்த்தி போன்ற மேம்பட்ட பட பண்புகளுக்கு வழிவகுக்கிறது. மேம்பட்ட குறைக்கடத்தி சாதனங்களில் திறமையான தொடர்புகளை உருவாக்குவதற்கு இது முக்கியமானது.

ஆப்டோ எலக்ட்ரானிக் சாதனத் தயாரிப்பு:ALD Planetary Susceptor இன் செயலற்ற தன்மையானது, III-V செமிகண்டக்டர்கள் போன்ற உணர்திறன் பொருட்களை வைப்பதில் பயன்படுத்தப்படும் முன்னோடிகளுடன் தேவையற்ற எதிர்வினைகளைக் குறைக்கிறது, ALD Planetary Susceptor ஐ LEDகள், லேசர்கள் மற்றும் பிற ஆப்டோ எலக்ட்ரானிக் கூறுகளை உற்பத்தி செய்வதற்கு சரியான பொருத்தமாக மாற்றுகிறது.

ALD சுழற்சி

அணு அடுக்கு படிவு (ALD)மற்ற மெல்லிய-பட படிவு நுட்பங்களை விட பல முக்கிய நன்மைகளை வழங்குகிறது, இது பல்வேறு பயன்பாடுகளுக்கு, குறிப்பாக மைக்ரோ எலக்ட்ரானிக்ஸ் மற்றும் நானோ தொழில்நுட்பத்தில் பிரபலமாகிறது.

ALD இன் சில முக்கிய நன்மைகள் இங்கே:

1. ஆங்ஸ்ட்ராம்-நிலை தடிமன் கட்டுப்பாடு:

ALD ஆனது ஆங்ஸ்ட்ராம் நிலை (0.1 நானோமீட்டர்கள்) வரை ஃபிலிம் தடிமனைத் துல்லியமாகக் கட்டுப்படுத்த அனுமதிக்கிறது. இந்த அளவிலான துல்லியம் அதன் சுய-கட்டுப்படுத்தப்பட்ட மேற்பரப்பு எதிர்வினைகள் மூலம் அடையப்படுகிறது, அங்கு ஒவ்வொரு சுழற்சியும் ஒரு அணு அடுக்கை டெபாசிட் செய்கிறது.

2. சிறந்த சீரான தன்மை மற்றும் இணக்கம்:

ALD பெரிய மேற்பரப்பு பகுதிகள் மற்றும் சிக்கலான 3D கட்டமைப்புகளில் விதிவிலக்கான சீரான தன்மையை வெளிப்படுத்துகிறது, இதில் அகழிகள் மற்றும் வயாஸ் போன்ற உயர் விகித விகித அம்சங்கள் அடங்கும். குறைக்கடத்தி சாதனங்கள் போன்ற சிக்கலான வடிவவியலில் சீரான பூச்சுகள் தேவைப்படும் பயன்பாடுகளுக்கு இது மிகவும் முக்கியமானது.

3. குறைந்த படிவு வெப்பநிலை:

மற்ற படிவு நுட்பங்களுடன் ஒப்பிடுகையில், ALD ஒப்பீட்டளவில் குறைந்த வெப்பநிலையில் (பெரும்பாலும் 300 ° C க்கும் குறைவாக) செய்யப்படலாம். இது வெப்ப-உணர்திறன் அடி மூலக்கூறுகளுக்கு சாதகமானது மற்றும் பரந்த அளவிலான பொருட்களைப் பயன்படுத்த உதவுகிறது.

4. உயர்தரத் திரைப்படங்கள்:

ALD பொதுவாக சிறந்த அடர்த்தி, குறைந்த தூய்மையற்ற நிலைகள் மற்றும் கலவை மற்றும் தடிமன் ஆகியவற்றில் அதிக சீரான திரைப்படங்களை உருவாக்குகிறது. பல்வேறு பயன்பாடுகளில் உகந்த செயல்திறனை அடைவதற்கு இந்த பண்புகள் அவசியம்.

5. பரந்த பொருள் தேர்வு:

ஆக்சைடுகள், நைட்ரைடுகள், உலோகங்கள் மற்றும் சல்பைடுகள் உட்பட, டெபாசிட் செய்யக்கூடிய பலவகையான பொருட்களை ALD வழங்குகிறது. இந்த பன்முகத்தன்மை அதை பரந்த அளவிலான பயன்பாடுகளுக்கு ஏற்றதாக ஆக்குகிறது.

6. அளவிடுதல் மற்றும் தொழில்துறை பொருந்தக்கூடிய தன்மை:

ALD தொழில்நுட்பம் மிகவும் அளவிடக்கூடியது மற்றும் தற்போதுள்ள உற்பத்தி செயல்முறைகளில் உடனடியாக ஒருங்கிணைக்கப்படலாம். இது பல்வேறு அடி மூலக்கூறு அளவுகள் மற்றும் வடிவங்களுடன் இணக்கமானது, அதிக அளவு உற்பத்திக்கு ஏற்றது.