TaC பூசப்பட்ட விதை படிக வைத்திருப்பவர்

அடி மூலக்கூறுTaC பூசப்பட்டதுவிதை படிக வைத்திருப்பவர் பொதுவாக கிராஃபைட், சிலிக்கான் கார்பைடு அல்லது கார்பன்/கார்பன் கலவைப் பொருட்களால் ஆனது, பின்னர் அதன் மேற்பரப்பில் மேம்பட்ட அதி-உயர் வெப்பநிலை இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) தொழில்நுட்பத்தின் மூலம் TaC பூச்சு ஒரு அடுக்கு பயன்படுத்தப்படுகிறது. இந்த முறையில் புனையப்பட்ட TaC பூசப்பட்ட விதை படிக ஹோல்டர் சிறந்த அரிப்பு எதிர்ப்பு, சூப்பர் மெக்கானிக்கல் வலிமை, நல்ல உயர் வெப்பநிலை எதிர்ப்பு மற்றும் திறமையான வெப்ப கடத்துத்திறன் ஆகியவற்றைக் கொண்டுள்ளது.

TaC பூசப்பட்ட விதை படிக வைத்திருப்பவரின் செயல்பாடு

1.ஆதரவு செயல்பாடு

Semicorex இன் TaC பூசப்பட்ட விதை படிக வைத்திருப்பவர் விதை படிகங்களுக்கு ஒரு நிலையான ஆதரவு தளத்தை வழங்குகிறது, அதிக வெப்பநிலை மற்றும் அதிக வெற்றிடம் போன்ற சவாலான சூழ்நிலைகளில் விதை படிகம் ஒரு நிலையான நிலையை பராமரிக்க உத்தரவாதம் அளிக்கிறது. இது படிக இடப்பெயர்ச்சி அல்லது அதிர்வு மற்றும் காற்று ஓட்டத்திலிருந்து சேதம் போன்ற சிக்கல்களைத் திறம்பட தடுக்கிறது, இதனால் படிக வளர்ச்சியின் தொடர்ச்சி மற்றும் நிலைத்தன்மையை உறுதி செய்கிறது.

2. பாதுகாப்பு விளைவு

TaC-பூசப்பட்ட விதை படிக ஹோல்டர் கிராஃபைட் க்ரூசிபிள் மூடிக்கு மேலே நிறுவப்பட்டுள்ளது, மேலும் கிராஃபைட் மூடியை உயர் வெப்பநிலை Si ஆவியில் இருந்து தனிமைப்படுத்துகிறது. இது நீராவி-தூண்டப்பட்ட அரிப்பை திறம்பட தவிர்க்கிறது மற்றும் கிராஃபைட் மூடியின் ஆயுளை நீட்டிக்கிறது. கூடுதலாக, TaC பூச்சுகளின் உள்ளார்ந்த இரசாயன நிலைத்தன்மை மற்றும் வெப்ப வெப்பநிலை எதிர்ப்பு ஆகியவை அசுத்தங்களின் அறிமுகத்தைக் குறைக்க உதவுகின்றன, விதை படிகங்களின் வளர்ச்சிக்கு நிலையான மற்றும் சுத்தமான சூழலை வழங்குகிறது.

3. வெப்பநிலை கட்டுப்பாடு

Semicorex TaC பூசப்பட்ட விதை படிக வைத்திருப்பவர் தொழில்துறையில் முன்னணியில் இருக்கும் உற்பத்தி நுட்பங்களைப் பயன்படுத்துகிறார். அவற்றின் வடிவம், பரிமாணங்கள் மற்றும் பூச்சு தடிமன் ஆகியவற்றை திறமையாக மேம்படுத்துவதன் மூலம் வெப்பப் புலத்தின் துல்லியமான வெப்பநிலைக் கட்டுப்பாட்டை அடைய முடியும். இது குறைபாடு விகிதத்தை கணிசமாகக் குறைக்கிறது மற்றும் சீரான படிக வளர்ச்சியை திறம்பட ஊக்குவிக்கிறது.