செமிகண்டக்டர் CVD SiC செயல்முறை தொழில்நுட்பத்தின் விரிவான விளக்கம்(பகுதி.I)

I. இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) சிலிக்கான் கார்பைடு (Sic) செயல்முறை தொழில்நுட்பத்தின் மேலோட்டம்

இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) சிலிக்கான் கார்பைடு (Sic) செயல்முறை தொழில்நுட்பத்தைப் பற்றி விவாதிப்பதற்கு முன், "ரசாயன நீராவி படிவு" பற்றிய சில அடிப்படை அறிவை முதலில் மதிப்பாய்வு செய்வோம்.

இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) என்பது பல்வேறு பூச்சுகளைத் தயாரிப்பதற்கு பொதுவாகப் பயன்படுத்தப்படும் நுட்பமாகும். இது ஒரு சீரான மெல்லிய படலம் அல்லது பூச்சு உருவாக்குவதற்கு பொருத்தமான எதிர்வினை நிலைமைகளின் கீழ் ஒரு அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பில் வாயு எதிர்வினைகளை வைப்பதை உள்ளடக்குகிறது.

CVD சிலிக்கான் கார்பைடு (Sic)உயர்-தூய்மை திடப் பொருட்களை உற்பத்தி செய்ய பயன்படுத்தப்படும் வெற்றிட படிவு செயல்முறை ஆகும். செமிகண்டக்டர் உற்பத்தியில் செதில் பரப்புகளில் மெல்லிய படலங்களை உருவாக்க இந்த செயல்முறை அடிக்கடி பயன்படுத்தப்படுகிறது. சிலிக்கான் கார்பைடு (Sic) தயாரிப்பதற்கான CVD செயல்பாட்டில், அடி மூலக்கூறு ஒன்று அல்லது அதற்கு மேற்பட்ட ஆவியாகும் முன்னோடிகளுக்கு வெளிப்படும். இந்த முன்னோடிகள் அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பில் ஒரு வேதியியல் எதிர்வினைக்கு உட்படுகின்றன, விரும்பிய சிலிக்கான் கார்பைடு (Sic) வைப்புத்தொகையை டெபாசிட் செய்கின்றன. சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) பொருட்களை தயாரிப்பதற்கான பல முறைகளில், இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) அதிக சீரான தன்மை மற்றும் தூய்மையுடன் தயாரிப்புகளை உருவாக்குகிறது, மேலும் வலுவான செயல்முறை கட்டுப்பாட்டை வழங்குகிறது.

CVD-டெபாசிட் செய்யப்பட்ட சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) பொருட்கள் சிறந்த வெப்ப, மின் மற்றும் வேதியியல் பண்புகளின் தனித்துவமான கலவையைக் கொண்டுள்ளன, அவை உயர் செயல்திறன் பொருட்கள் தேவைப்படும் குறைக்கடத்தி துறையில் பயன்பாடுகளுக்கு ஏற்றதாக அமைகின்றன. CVD-டெபாசிட் செய்யப்பட்ட SiC கூறுகள் பொறித்தல் கருவிகள், MOCVD உபகரணங்கள், Si எபிடாக்சியல் உபகரணங்கள், SiC எபிடாக்சியல் உபகரணங்கள் மற்றும் விரைவான வெப்ப செயலாக்க கருவிகளில் பரவலாகப் பயன்படுத்தப்படுகின்றன.

ஒட்டுமொத்தமாக, CVD-டெபாசிட் செய்யப்பட்ட SiC பாகங்கள் சந்தையின் மிகப்பெரிய பிரிவு உபகரணக் கூறுகளை பொறிப்பதாகும். குளோரின் மற்றும் ஃவுளூரின் கொண்ட பொறித்தல் வாயுக்களுக்கு CVD- டெபாசிட் செய்யப்பட்ட SiC இன் குறைந்த வினைத்திறன் மற்றும் கடத்துத்திறன் காரணமாக, பிளாஸ்மா பொறிக்கும் கருவிகளில் வளையங்களை மையப்படுத்துதல் போன்ற கூறுகளுக்கு இது ஒரு சிறந்த பொருளாகும். பொறிக்கும் கருவிகளில், அதற்கான கூறுகள்இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC)கவனம் செலுத்தும் வளையங்கள், வாயு தெளிப்பு தலைகள், தட்டுகள் மற்றும் விளிம்பு வளையங்கள் ஆகியவை அடங்கும். ஃபோகசிங் வளையத்தை உதாரணமாக எடுத்துக் கொண்டால், இது செதில்களுக்கு வெளியேயும் அதனுடன் நேரடித் தொடர்பில் வைக்கப்படும் ஒரு முக்கிய அங்கமாகும். வளையத்திற்கு மின்னழுத்தத்தைப் பயன்படுத்துவதன் மூலம், அதன் வழியாக செல்லும் பிளாஸ்மா செதில் மீது கவனம் செலுத்துகிறது, செயலாக்க சீரான தன்மையை மேம்படுத்துகிறது. பாரம்பரியமாக, கவனம் செலுத்தும் வளையங்கள் சிலிக்கான் அல்லது குவார்ட்ஸால் செய்யப்படுகின்றன. ஒருங்கிணைந்த மின்சுற்று மினியேட்டரைசேஷன் முன்னேற்றத்துடன், ஒருங்கிணைந்த மின்சுற்று உற்பத்தியில் பொறித்தல் செயல்முறைகளின் தேவையும் முக்கியத்துவமும் தொடர்ந்து அதிகரித்து வருகின்றன. பிளாஸ்மாவை பொறிக்கும் சக்தியும் ஆற்றலும் தொடர்ந்து மேம்பட்டு வருகின்றன, குறிப்பாக அதிக பிளாஸ்மா ஆற்றல் தேவைப்படும் கொள்ளளவு இணைக்கப்பட்ட பிளாஸ்மா பொறிக்கும் கருவிகளில். எனவே, சிலிக்கான் கார்பைடால் செய்யப்பட்ட ஃபோகசிங் வளையங்களின் பயன்பாடு அதிகரித்து வருகிறது.

எளிமையான சொற்களில்: இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) என்பது இரசாயன நீராவி படிவு செயல்முறை மூலம் உற்பத்தி செய்யப்படும் சிலிக்கான் கார்பைடு பொருளைக் குறிக்கிறது. இந்த முறையில், பொதுவாக சிலிக்கான் மற்றும் கார்பனைக் கொண்ட ஒரு வாயு முன்னோடி, ஒரு சிலிக்கான் கார்பைடு படலத்தை அடி மூலக்கூறில் வைப்பதற்காக உயர்-வெப்பநிலை அணுஉலையில் வினைபுரிகிறது. இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) சிலிக்கான் கார்பைடு (SiC) உயர் வெப்ப கடத்துத்திறன், இரசாயன செயலற்ற தன்மை, இயந்திர வலிமை மற்றும் வெப்ப அதிர்ச்சி மற்றும் சிராய்ப்புக்கு எதிர்ப்பு உட்பட அதன் உயர்ந்த பண்புகளுக்காக மதிப்பிடப்படுகிறது. செமிகண்டக்டர் உற்பத்தி, விண்வெளிக் கூறுகள், கவசம் மற்றும் உயர்-செயல்திறன் பூச்சுகள் போன்ற கோரிக்கையான பயன்பாடுகளுக்கு இந்த பண்புகள் CVD SiC ஐ சிறந்ததாக ஆக்குகின்றன. மேம்பட்ட தொழில்நுட்பங்கள் மற்றும் தொழில்துறை அமைப்புகளின் செயல்திறன் மற்றும் ஆயுட்காலத்தை மேம்படுத்துவதில் அதன் செயல்திறனை உறுதிசெய்து, தீவிர நிலைமைகளின் கீழ் பொருள் விதிவிலக்கான ஆயுள் மற்றும் நிலைத்தன்மையை வெளிப்படுத்துகிறது.

II. இரசாயன நீராவி படிவுக்கான அடிப்படை செயல்முறை (CVD)

இரசாயன நீராவி படிவு (CVD) என்பது ஒரு வாயு நிலையிலிருந்து ஒரு திடமான நிலைக்கு பொருட்களை மாற்றும் ஒரு செயல்முறையாகும், இது ஒரு அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பில் மெல்லிய படலங்கள் அல்லது பூச்சுகளை உருவாக்க பயன்படுகிறது. நீராவி படிவுக்கான அடிப்படை செயல்முறை பின்வருமாறு:

1. அடி மூலக்கூறு தயாரிப்பு: 

தகுந்த அடி மூலக்கூறுப் பொருளைத் தேர்ந்தெடுத்து, அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்பு சுத்தமாகவும், மிருதுவாகவும், நல்ல ஒட்டுதலுடனும் இருப்பதை உறுதி செய்வதற்காக, சுத்தம் செய்தல் மற்றும் மேற்பரப்பு சிகிச்சையைச் செய்யவும்.

2. எதிர்வினை வாயு தயாரிப்பு: 

தேவையான வினைத்திறன் வாயுக்கள் அல்லது நீராவிகளை தயார் செய்து, வாயு விநியோக அமைப்பு மூலம் அவற்றை படிவு அறைக்குள் அறிமுகப்படுத்துங்கள். எதிர்வினை வாயுக்கள் கரிம சேர்மங்கள், ஆர்கனோமெட்டாலிக் முன்னோடிகள், மந்த வாயுக்கள் அல்லது பிற விரும்பிய வாயுக்களாக இருக்கலாம்.

3. வைப்பு வினை: 

செட் எதிர்வினை நிலைமைகளின் கீழ், நீராவி படிவு செயல்முறை தொடங்குகிறது. எதிர்வினை வாயுக்கள் அடி மூலக்கூறு மேற்பரப்புடன் வேதியியல் அல்லது உடல் ரீதியாக வினைபுரிந்து ஒரு வைப்புத்தொகையை உருவாக்குகின்றன. இது பயன்படுத்தப்படும் படிவு நுட்பத்தைப் பொறுத்து நீராவி-கட்ட வெப்பச் சிதைவு, இரசாயன எதிர்வினை, ஸ்பட்டரிங், எபிடாக்சியல் வளர்ச்சி போன்றவையாக இருக்கலாம்.

4. கட்டுப்பாடு மற்றும் கண்காணிப்பு: 

படிவு செயல்பாட்டின் போது, ​​பெறப்பட்ட படம் விரும்பிய பண்புகளைக் கொண்டிருப்பதை உறுதிசெய்ய முக்கிய அளவுருக்கள் நிகழ்நேரத்தில் கட்டுப்படுத்தப்பட்டு கண்காணிக்கப்பட வேண்டும். இதில் வெப்பநிலை அளவீடு, அழுத்தம் கட்டுப்பாடு மற்றும் எதிர்வினை நிலைகளின் நிலைத்தன்மை மற்றும் நிலைத்தன்மையை பராமரிக்க வாயு ஓட்ட விகிதம் கட்டுப்பாடு ஆகியவை அடங்கும்.

5. டெபாசிட் முடித்தல் மற்றும் பிந்தைய டெபாசிஷன் செயலாக்கம் 

முன்னரே தீர்மானிக்கப்பட்ட படிவு நேரம் அல்லது தடிமன் அடைந்தவுடன், எதிர்வினை வாயு வழங்கல் நிறுத்தப்பட்டு, படிவு செயல்முறை முடிவடைகிறது. பின்னர், படத்தின் செயல்திறன் மற்றும் தரத்தை மேம்படுத்த, அனீலிங், கட்டமைப்பு சரிசெய்தல் மற்றும் மேற்பரப்பு சிகிச்சை போன்ற தேவைக்கேற்ப பொருத்தமான பிந்தைய வைப்பு செயலாக்கம் செய்யப்படுகிறது.

குறிப்பிட்ட நீராவி படிவு செயல்முறை பயன்படுத்தப்படும் படிவு தொழில்நுட்பம், பொருள் வகை மற்றும் பயன்பாட்டுத் தேவைகளைப் பொறுத்து மாறுபடும் என்பதைக் கவனத்தில் கொள்ள வேண்டும். இருப்பினும், மேலே விவரிக்கப்பட்ட அடிப்படை செயல்முறையானது நீராவி படிவுகளில் பெரும்பாலான பொதுவான படிகளை உள்ளடக்கியது.

Semicorex உயர்தரத்தை வழங்குகிறதுCVD SiC தயாரிப்புகள். உங்களிடம் ஏதேனும் விசாரணைகள் இருந்தால் அல்லது கூடுதல் விவரங்கள் தேவைப்பட்டால், தயவுசெய்து எங்களைத் தொடர்புகொள்ள தயங்க வேண்டாம்.

தொடர்பு தொலைபேசி எண் +86-13567891907

மின்னஞ்சல்: sales@semicorex.com